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J-GLOBAL ID：202302234045932594   整理番号：23A0206640

スパッタリング時の圧力によるAlScN膜への影響

Influence of sputtering pressure on AlScN films

著者 (6件)： 時田幸村 (東工大 工学院) ,  TSAI Sung-Lin (東工大 工学院) ,  星井拓也 (東工大 工学院) ,  若林整 (東工大 工学院) ,  筒井一生 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東工大 工学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.22p-A307-7  発行年： 2022年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： X線回折 ,...

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分類 (5件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  分子構造  (EB03020Y) ,  生体の顕微鏡観察法  (EA03050C) ,  分析機器  (CC02020S) ,  生体膜一般  (EF04010G)

タイトルに関連する用語 (1件)： スパッタリング