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J-GLOBAL ID：202302242712616672   整理番号：23A2514445

プラズマ支援反応性スパッタリングによるアモルファス酸化ガリウム薄膜形成

Plasma-Assisted Reactive Sputtering for Amorphous Gallium Oxide Thin Film Formation

著者 (8件)： 竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  小松響 (阪大 接合研) ,  藤村知輝 (阪大 接合研) ,  都甲将 (阪大 接合研) ,  井手啓介 (東工大 フロ研) ,  江部明憲 (イー・エム・ディー) ,  神谷利夫 (東工大 フロ研) ,  節原裕一 (阪大 接合研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 70th  ページ： ROMBUNNO.17a-A205-3  発行年： 2023年02月27日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 近年、フラットパネルディスプレイは高性能化・多機能化が著しい.現在,一部で実用化が開始されている4K・8K放送に対応した高精細,高フレームレートのディスプレイの開発やフレキシブルデバイスやウェアラブルデバイスといった従来のディスプレイとは異...【本文一部表示】

シソーラス用語： 混合気体 ,  *プラズマ ,  低温 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  電気的性質 ,  *ガリウム ,  水素 ,  薄膜トランジスタ ,  *非晶質 ,  電気特性 ,  分圧 ,  フラットパネルディスプレイ ,  製膜 ,  *薄膜形成

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  支援 ,  反応性スパッタリング ,  アモルファス ,  酸化ガリウム ,  薄膜形成