電界下X線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O<sub>3</sub>膜における圧電応答の膜厚依存性の評価

中畑美紀; 岡本一輝; 石濱圭佑; 山田智明; 舟窪浩

文献

J-GLOBAL ID：202302274118091311 整理番号：23A2514036

電界下X線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O₃膜における圧電応答の膜厚依存性の評価

Evaluation of film thickness dependence of piezoelectric response in tetragonal Pb(Zr,Ti)O₃ films by x-ray diffraction with application of an electric field

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巻： 70th ページ： ROMBUNNO.16p-A409-6 発行年： 2023年02月27日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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蛋白質・ペプチド一般 , 生体膜一般

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電界下X線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜における圧電応答の膜厚依存性の評価

電界下X線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O₃膜における圧電応答の膜厚依存性の評価