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J-GLOBAL ID：202302279411061525   整理番号：23A0795411

紫外線と低温プラズマの完全同時照射装置の親水化処理効果と分光特性の調査

Measurement of and Hydrophilic Effect and Spectroscopic Property of Ultraviolet and Low-temperature Plasma Simultaneous Irradiation Device

著者 (4件)： LIU Zhizhi (東京工大 未来産技研) ,  大澤泰樹 (東京工大 未来産技研) ,  XU Mao (東京工大 未来産技研) ,  沖野晃俊 (東京工大 未来産技研)
資料名： 日本分光学会年次講演会(CD-ROM)
巻： 2022  ページ： 44  発行年： 2022年 
JST資料番号： L0419C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 近年,大気圧下で室温から100°C程度の低温プラズマを利用できるようになったため,接着強度向上などの工業分野だけでなく,殺菌,止血,細胞活性化といった生命科学分野にも応用され始めている。大気圧下で大面積なプラズマを生成する方法として,誘電体バ...【本文一部表示】

シソーラス用語： イオン化 ,  *紫外線 ,  *プラズマ ,  表面処理 ,  誘電体 ,  励起 ,  殺菌 ,  アルゴン ,  酸素 ,  窒素 ,  ポリイミド ,  紫外線照射 ,  プラズマ装置 ,  無声放電 ,  *低温プラズマ

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 紫外線 ,  低温プラズマ ,  同時照射 ,  親水化処理 ,  分光特性 ,  調査