文献

J-GLOBAL ID：202302287641196955   整理番号：23A2979833

In-situ小角X線散乱によるシロキサン含有ブロック共重合ポリイミドの特異的な低体積熱膨張発現の機構解明

In-situ Small-Angle X-ray Scattering Study on the Mechanism of Unique Low-Volume Thermal Expansion of Siloxane-Containing Block Copolymerized Polyimides

著者 (7件)： 百瀬敦都 (東京工大) ,  安藤慎治 (東京工大) ,  石毛亮平 (東京工大) ,  松田直樹 (山形大 大学院) ,  東原知哉 (山形大 大学院) ,  丸山洋一郎 (JSR) ,  藤冨晋太郎 (JSR)
資料名： 繊維学会予稿集(CD-ROM)  (繊維学会予稿集秋季研究発表会(CD-ROM))
巻： 78  号： 1  ページ： ROMBUNNO.3A10  発行年： 2023年06月07日 
JST資料番号： L1827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】優れた耐熱性や機械的強度,電気絶縁性を有し,電子回路基板の絶縁膜等に用いられるポリイミド(PI)には,近年のフレキシブルデバイスの発展に伴い,より高い靭性と延性が求められている.PIの靭性向上を目的として,ポリジメチルシロキサン(P...【本文一部表示】

シソーラス用語： 小角X線散乱 ,  *ブロック共重合体 ,  ポリジメチルシロキサン ,  *熱膨張係数 ,  相分離 ,  熱処理

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 小角X線散乱 ,  シロキサン ,  ブロック共重合 ,  ポリイミド ,  体積 ,  熱膨張