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J-GLOBAL ID：202302289332206955   整理番号：23A0205337

MoS₂膜質のスパッタ成膜レート依存性調査

Research on sputter deposition rate dependence of MoS₂ film quality

著者 (8件)： 今井慎也 (東京工大) ,  小野凌 (東京工大) ,  宗田伊理也 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  辰巳哲也 (東京工大) ,  冨谷茂隆 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大) ,  若林整 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.21a-C202-11  発行年： 2022年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： *X線回折 ,...
準シソーラス用語： *二硫化モリブデン

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分類 (3件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  脂質一般  (EB05010B) ,  分子構造  (EB03020Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： MoS2 ,  膜質 ,  スパッタ成膜 ,  レート ,  依存性 ,  調査