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J-GLOBAL ID：202402226464734638   整理番号：24A0684611

MEMS応用に向けたNd-Fe-B系厚膜磁石の開発

Preparation of Nd-Fe-B thick film magnets applied to MEMS

著者 (7件)： 樋口晃太 (長崎大) ,  高嶋恵佑 (長崎大) ,  山下昂洋 (長崎大) ,  柳井武志 (長崎大) ,  中野正基 (長崎大) ,  福永博俊 (長崎大) ,  進士忠彦 (東京工大)
資料名： センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム(CD-ROM)  (センサ・マイクロマシンと応用システムシンポジウム論文集(CD-ROM))
巻： 38th  ページ： ROMBUNNO.10P3-SSP-22  発行年： 2021年11月02日 
JST資料番号： X0768B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・MEMS応用に向けた,膜厚増加と微細着磁を同時に実現させるNd-Fe-B系厚膜磁石の開発について報告。
・著者らの先行研究において,Nd含有量の増加は,厚膜化に有効である一方,残留磁気分極や(BH)_max低下を招くことが判明。
・最近著者らは,Nd含有量を増加させることなく,膜厚増加と微細着磁を同時に満足する方法として,厚膜磁石とSi基板の界面にガラス膜(下地層)を挿入する方法を考案。
・本稿では,ガラス下地層を挿入した試料の磁気特性や角形性に及ぼす熱処理条件の影響について検討し,得られた知見を提示 。

シソーラス用語： *MEMS ,  *永久磁石 ,  パルスレーザ蒸着 ,  積層構造 ,  下地層 ,  *厚膜磁石
準シソーラス用語： PLD【蒸着】

分類 (1件)： 電磁石  (NA05080G)

引用文献 (5件)：

• N. M. Dempsey, A. Walther, F. May, D. Givord, K. Khlopkov, and O. Gutfleeisch : “High performance hard magnetic NdFeB thick films for integration into micro-electro-mechanical systems “, Appl. Phys. Lett., 90, p.092509 (2007).
• Ryogen Fujiwara, Tadahiko Shinshi, Elito Kazawa. “Micromagnetization pattering of sputtered NdFeB/Ta multilayered films utilizinglaster assisted heating”, Sensors and Actuators A: Physical, 220, pp. 298-304(2014).
• M. Nakano Y. Chikuba, M. Oryoshi, A. Yamashita, T. Yanai, R. Fujiwara, T. Shinshi, H. Fukunaga : “Nd-Fe-B Film Magnets With Thickness Above 100 um Deposited on Si Substrates”, IEEE Transactions on Magnetics. 51, #2102604 (2015).
• Dong Han, Tadahiko Shinshi, Keita Nagai, Mizuki Momosaki, Masaki Nakano, “Microlinear Halbach Array of Thick-Film Nd-Fe-B Magnets Utilizing Local Laser Irradiation and a Direction-Changeable External Magnetic Field”, IEEE Magnetics Letters, 11, #8103804 (2020).
• H. Fukunaga, K. Tokunaga, and J. M. Song, “Improvement in coercivity by high-speed crystallization for PrFeB-Based nanocomposite magnets”, IEEE Trans. Mag, 38, pp. 2970-2972(2002).

タイトルに関連する用語 (6件)： MEMS ,  応用 ,  Nd ,  Fe ,  厚膜磁石 ,  開発