文献

J-GLOBAL ID：202402284031953345   整理番号：24A2333457

Zrをパターンニングした基板上に形成したREBa₂Cu₃O_y薄膜の臨界電流特性

Critical current characteristics of REBa₂Cu₃O_y thin films deposited on a Zr-patterned substrates

著者 (5件)： 関戸真矢 (福岡工大) ,  白土裕一朗 (福岡工大) ,  松本明善 (NIMS) ,  立木実 (NIMS) ,  井上昌睦 (福岡工大)
資料名： 低温工学・超電導学会講演概要集  (低温工学・超電導学会研究発表会講演概要集)
巻： 107th  ページ： 104  発行年： 2024年05月23日 
JST資料番号： G0564B  ISSN： 0919-5998  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： REBa2Cu3Oy(REBCO)線材の交流損失の低減には線材の細線化が有効である.細線化の手法の一つとして超電導層の成膜前に基板にあらかじめ金属(Zr等)を線状にパターンニングし,その後超電導層を成膜することで細線分離を行う手法に取り組んでいる.今回は細線形成したZrに対して平行及び垂直なマイクロブリッジを作製し,それぞれの臨界電流特性を調べたのでその結果について報告する.(著者抄録)

シソーラス用語： 超伝導 ,  電圧 ,  電場 ,  *薄膜 ,  *臨界電流 ,  *ジルコニウム ,  電流電圧特性 ,  電流密度 ,  線材 ,  フォトリソグラフィー ,  *パターン形成 ,  細線化 ,  パルスレーザ蒸着 ,  磁場分布 ,  薄膜形成

分類 (2件)： 超伝導材料  (BM04041W) ,  酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (4件)： Zr ,  パターンニング ,  薄膜 ,  臨界電流