特許

J-GLOBAL ID：202403002684734011

プラズマ処理装置及び貨幣処理装置

発明者： 中西 秀行 ,  栗原 崇 ,  小澤 茂樹 ,  沖野 晃俊 ,  末永 祐磨 ,  中井 一輝 ,  大澤 泰樹 ,  岩澤 篤郎 ,  天野 有里子
出願人/特許権者： ローレルバンクマシン株式会社 ,  ローレル機械株式会社 ,  ローレル精機株式会社 ,  国立大学法人東京科学大学 ,  学校法人青葉学園
代理人 (1件)： 清水 貴光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-218051
公開番号（公開出願番号）：特開2022-102960
特許番号：特許第7582604号
出願日： 2020年12月25日
公開日（公表日）： 2022年07月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被処理物を殺菌処理するプラズマ処理装置であって、 供給された誘導ガスから大気圧においてプラズマを生成するプラズマ生成部と、 所定の搬送方向に沿って前記被処理物を通過させるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内に設けられ、前記プラズマ処理室内を通過する前記被処理物の一方の表面を支持する支持部と、を備え、 前記プラズマ生成部と前記プラズマ処理室とは、隔離壁により隔てられており、 前記隔離壁には、前記プラズマ生成部と前記プラズマ処理室とを連通する1又は複数の貫通孔が形成され、 前記プラズマ生成部において生成されたプラズマは、前記貫通孔を介して前記プラズマ処理室に導入されて前記被処理物の少なくとも一方の表面を殺菌処理し、前記被処理物の一方の表面において前記支持部により支持されない非支持範囲は、前記被処理物の通過に伴って変更され、前記プラズマ処理室内の前記被処理物の通過が完了した時点で、前記被処理物の表面の全ての領域に及ぶように設定されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

A61L 2/14 ( 200 6.01) ,  H05H 1/24 ( 200 6.01) ,  G07D 11/40 ( 201 9.01)

FI (3件)：

A61L 2/14 ,  H05H 1/24 ,  G07D 11/40

引用特許：

審査官引用 (1件)

• インジェクションタイプのプラズマ処理装置及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-523776   出願人：ピーエスエムインコーポレイティド