文献

J-GLOBAL ID：202502216359763190   整理番号：25A0465396

アンチファウリング膜の防汚性向上に向けた双性イオンブラシ構造の検討

The Investigation and Fabrication of Zwitterionic Brush Structures on Membranes Surface for Improving the Antifouling.

著者 (4件)： 吉田あづ希 (東京科大 化生研) ,  奥山浩人 (東京科大 化生研) ,  宮西将史 (東京科大 化生研) ,  山口猛央 (東京科大 化生研)
資料名： 膜シンポジウム(CD-ROM)  (膜シンポジウム講演要旨集(CD-ROM))
巻： 2024  ページ： 136  発行年： 2024年11月14日 
JST資料番号： L2226B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・防汚膜用の双性イオンブラシ構造の合成について紹介。
・原子移動ラジカル重合で片末端アジド基を有するポリ(2-メタクリロイルシオキシエチルホスホリルコリン)を合成。
・合成したポリマにさらにアジ化ナトリウムとの反応で末端Br基をアジド基に変換して両末端アジド高分子も合成。
・クリック反応により表面に単鎖やループ鎖の膜面結合構造を確認。

シソーラス用語： *防汚加工 ,  高分子ブラシ ,  双性イオン ,  化学合成 ,  原子移動ラジカル重合 ,  アジド化 ,  高分子鎖 ,  ループ構造 ,  MPCポリマ ,  クリック化学 ,  膜ファウリング ,  水処理 ,  高分子膜
準シソーラス用語： クリック反応

分類 (2件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I) ,  表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (4件)： ファウリング ,  防汚性 ,  双性イオン ,  ブラシ