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J-GLOBAL ID：202602213474184367   整理番号：26A0533952

双性イオンブラシの精密修飾に基づく防汚膜設計と吸着挙動解析

著者 (6件)： 奥山浩人 (東京科大 化生研) ,  大浦真実 (東京科大 化生研) ,  栗原雄大 (東京科大 化生研) ,  大柴雄平 (東京科大 化生研) ,  黒木秀記 (東京科大 化生研) ,  山口猛央 (東京科大 化生研)
資料名： 膜シンポジウム(CD-ROM)  (膜シンポジウム講演要旨集(CD-ROM))
巻： 2025  ページ： 26-28  発行年： 2025年11月14日 
JST資料番号： L2226B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・双性イオンブラシ上へのファウラントの吸着挙動の解析によるア...

シソーラス用語： 双性イオン ,...

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分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： 双性イオン ,  ブラシ ,  精密 ,  修飾 ,  防汚 ,  設計 ,  吸着 ,  挙動解析