青木正人

アオキマサト | Aoki Masato

所属機関・部署：
職名：教授
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：

研究分野 (2件)：金属材料物性 , 半導体、光物性、原子物理

研究キーワード (9件)：ナノ構造 , 物性理論 , 分子動力学 , シリコンクラスレート , 原子間ポテンシャル , グラフェン , 第一原理計算 , タイトバインディング , ボンドオーダーポテンシャル

競争的資金等の研究課題 (5件)：

論文 (42件)：

MISC (6件)：

⻘木正人. 岐阜大学で開催された2019 年秋季大会(物性)を振り返って. 日本物理学会誌. 2020. 75. 3. 164-165
佐藤亮太, 青木正人. II型シリコンクラスレートにおける原子拡散の動力学. 日本物理学会2019年秋季大会概要集. 2019. 74. 2. 2197-2197
上田悠貴, 青木正人. ホウ素をドープしたヘテロ接合をもつグラフェンナノリボンのギャップ内状態. 日本物理学会2019年秋季大会概要集. 2019. 74. 2. 958-958
志知佑紀, 青木正人. Z形グラフェンナノリボン量子ドット接合のギャップ内状態に対する欠陥の影響. 日本物理学会2019年秋季大会概要集. 2019. 74. 2. 957-957
紅光, 青木正人, 田中真悟, 香山正憲. 27pXS-6 グラフェンの原子空孔における酸素分子の吸着と解離について(27pXS 格子欠陥・ナノ構造(招待・理論・電子論・金属),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン)). 日本物理学会講演概要集. 2013. 68. 1. 1035-1035

書籍 (4件)：

講演・口頭発表等 (33件)：

ホウ素をドープしたヘテロ接合をもつグラフェンナノリボンのギャップ内状態
(日本物理学会 2019年秋季大会 2019)
II型シリコンクラスレートにおける原子拡散の動力学
(日本物理学会 2019年秋季大会 2019)
Z形グラフェンナノリボン量子ドット接合のギャップ内状態に対する欠陥の影響
(日本物理学会 2019年秋季大会 2019)
原子空孔をもつII型Si クラスレートにおけるNa 拡散の動力学
(日本物理学会 2018年秋季大会 2018)
bcc鉄表面-酸素-グラフェン系の相互作用と構造の第一原理計算
(日本物理学会第73回年次大会 2018)

学歴 (1件)：

学位 (1件)：

経歴 (8件)：

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委員歴 (2件)：

所属学会 (3件)：

アメリカ化学会 , 日本物理学会 , アメリカ物理学会

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