研究者
J-GLOBAL ID:201801017785106545   更新日: 2024年02月01日

本村 大成

モトムラ タイセイ | Motomura Taisei
研究分野 (3件): 薄膜、表面界面物性 ,  プラズマ科学 ,  プラズマ応用科学
研究キーワード (8件): 成膜 ,  反応性スパッタリング ,  薄膜 ,  スパッタリング ,  エッチング ,  プラズマ応用 ,  プラズマ ,  ヘリコンプラズマ
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2016 - 2019 常磁性低融点金属スパッタリングに用いる新規プラズマ源の研究開発
  • 2014 - 2016 高密度イオン軌道ベクトル制御プラズマによる高速・高アスペクト比エッチングの創成
  • 2011 - 2015 フェムト秒レーザーを組み込んだ能動的誘起蛍光分光システムの開発
  • 2013 - 2014 強磁性体ステージを有する高速ヘリコンプラズマエッチング源
  • 2010 - 2011 短軸長の高密度ヘリコンプラズマ源開発と高速プラズマ流制御の先進研究
論文 (36件):
  • Kenshin Takemura, Taisei Motomura, Wataru Iwasaki, Nobutomo Morita. Fabrication of Highly Active Nanoneedle Gold Electrode Using Rose Petals for Electrochemical Detection of Arsenic(III). ACS Applied Nano Materials. 2023. 6. 17. 15879-15886
  • Taisei Motomura, Kenshin Takemura, Toshimi Nagase, Nobutomo Morita, Tatsuo Tabaru. Suppression of substrate temperature in DC magnetron sputtering deposition by magnetic mirror-type magnetron cathode. AIP Advances. 2023. 13. 2
  • Yuichi Kurashima, Taisei Motomura, Shinya Yanagimachi, Takashi Matsumae, Mitsuhiro Watanabe, Hideki Takagi. High-Efficiency Plasma Source Using a Magnetic Mirror Trap for Miniature-Ion Pumps. Sensors. 2023
  • Taisei Motomura, Tatsuo Tabaru, Masato Uehara. Substrate temperature dependence of GaN film deposited on sapphire substrate by high-density convergent plasma sputtering device. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2022
  • Kenshin Takemura, Taisei Motomura, Wataru Iwasaki, Naoki Matsuda. Metal deposition and shape reproduction at biological temperatures on cell-level samples. Scientific reports. 2022. 12. 1. 13328-13328
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MISC (44件):
  • 倉島 優一, 本村 大成, 渡邉 満洋, 柳町 真也, 松前 貴司, 高木 秀樹, 日暮 栄治. 微小空間における高効率プラズマ生成のための磁気回路設計. 精密工学会学術講演会講演論文集. 2021. 2021A. 362-362
  • 井口 航平, 岩崎 渉, 上原 雅人, 大曲 新矢, 本村 大成, 森田 伸友, 伊藤 高廣, 村上 直. AlN膜の結晶性と弾性表面波デバイスの特性に関する研究. 精密工学会学術講演会講演論文集. 2021. 2021A. 360-361
  • 井上 賢人, 是澤 宏之, 楢原 弘之, 石田 秀一, 本村 大成, 田原 竜夫. 切削中のAE信号と機械学習を用いた加工状態の観察に関する研究. 精密工学会学術講演会講演論文集. 2021. 2021S. 368-369
  • 本村 大成, 田原 竜夫, 上原 雅人. 高密度収束プラズマスパッタリング装置を用いたc軸配向窒化ガリウム薄膜の低温成膜. 日本表面真空学会学術講演会要旨集. 2021. 2021. 2Ca09Y
  • 本村 大成, 田原 竜夫. 液体金属を用いたプラズマスパッタリング. 2020. 96. 12. 695-700
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特許 (5件):
学歴 (4件):
  • 2009 - 2012 九州大学大学院 総合理工学府 先端エネルギー理工学専攻 博士後期課程
  • 2007 - 2009 九州大学大学院 総合理工学府 先端エネルギー理工学専攻 修士課程
  • 2005 - 2007 独立行政法人 国立高等専門学校機構 久留米工業高等専門学校 専攻科 機械・電気システム工学専攻
  • 2000 - 2005 独立行政法人 国立高等専門学校機構 久留米工業高等専門学校 制御情報工学科
経歴 (3件):
  • 2016/10 - 現在 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 主任研究員
  • 2012/04 - 2016/09 独立行政法人 産業技術総合研究所 研究員
  • 2010/04 - 2012/03 独立行政法人 日本学術振興会 特別研究員 DC2
委員歴 (6件):
  • 2023/04 - 2025/03 一般社団法人エレクトロニクス実装学会 学会誌編集委員
  • 2023/04 - 2025/03 一般社団法人エレクトロニクス実装学会 官能検査システム化研究会 主査
  • 2022/04 - 2025/03 公益社団法人日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会) 幹事
  • 2023/04 - 2024/03 公益社団法人応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 アカデミックロードマップ改訂WGメンバー
  • 2020/07 - 2022/06 一般社団法人 プラズマ・核融合学会 学会誌編集委員
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受賞 (3件):
  • 2024/04 - 一般社団法人 エレクトロニクス実装学会 第37回エレクトロニクス実装学会 春季講演大会 優秀賞
  • 2022/05 - 公益社団法人日本表面真空学会 講演奨励賞(若手研究者部門)
  • 2016/11 - 一般社団法人日本真空学会 第25回真空進歩賞
所属学会 (4件):
応用物理学会 ,  日本表面真空学会 ,  エレクトロニクス実装学会 ,  プラズマ・核融合学会
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