研究者
J-GLOBAL ID：202001011805920660   更新日: 2024年07月02日

大坂 藍

オオサカ アイ | Osaka Ai
所属機関・部署：
兵庫県立大学 大学院 工学研究科

兵庫県立大学 大学院 工学研究科 について


職名： 助教
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：
研究分野 (3件)： 機械要素、トライボロジー ,  ナノ構造物理 ,  加工学、生産工学
研究キーワード (5件)： 触媒 ,  三次元ナノ構造科学 ,  強相関酸化物 ,  表面処理 ,  研磨
競争的資金等の研究課題 (7件)：
  • 2024 - 2027 基板表面性状制御によるニッケル酸化物薄膜の高濃度水素貯蔵性能の創出
  • 2022 - 2025 化学機械研磨反応を利用したフラーレンへの高濃度水素貯蔵の挑戦
  • 2024 - 2025 強相関酸化物の構造因子制御による柔軟応答性の創出
  • 2022 - 2024 高精度ナノ-マイクロVO2立体構造支配によるマルチガスセンサ性能の創出
  • 2022 - 2024 化学研磨の応用による遷移金属酸化物薄膜の物性加工技術構築
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論文 (40件)：
  • Michihiro Yamada, Shota Suzuki, Ai I. Osaka, Kazuaki Sumi, Takahiro Inoue, Azusa N. Hattori, Shinya Yamada, Kentarou Sawano, Marwan Dhamrin, Kohei Hamaya. Al-Ge-paste-induced liquid phase epitaxy of Si-rich SiGe(111) for epitaxial Co-based Heusler alloys. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 174
  • D. Toh, K. Kayao, R. Ohnishi, A. I. Osaka, K. Yamauchi, Y. Sano. Bias-assisted photoelectrochemical planarization of GaN (0001) with impurity concentration distribution. AIP Advances. 2023
  • Umar Sidik, Azusa N. Hattori, Hao-Bo Li, Shin Nonaka, Ai I. Osaka, Hidekazu Tanaka. Strain effect on proton-memristive NdNiO3 thin film devices. Applied Physics Express. 2023. 16. 1. 014001-014001
  • Ken Hattori, Yuya Sakai, Liliany N. Pamasi, Aydar Irmikimov, Takaaki Higashi, HaoBang Yang, XiaoQian Shi, FangZhun Guo, Ai I. Osaka, Hidekazu Tanaka, et al. Accessibility of ARPES for Three-dimensionally Architected Si{111}7×7 Facet Surfaces on Micro-patterned Si(110). e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. 2022. 20. 4. 214-220
  • Hui Ren, Ai Isohashi Osaka, Azusa N. Hattori, Boyuan Yu, Masaya Nagai, Masaaki Ashida, Bowen Li, Chongwen Zou, Hidekazu Tanaka. Controllable Strongly Electron-Correlated Properties of NdNiO3Induced by Large-Area Protonation with Metal-Acid Treatment. ACS Applied Electronic Materials. 2022. 4. 7. 3495-3502
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MISC (38件)：
  • 梅崎景都, 大坂藍, 服部梓, 田中秀和. 薄膜下地基板の表面状態改善によるSmNiO3の水素拡散抵抗変化率の向上. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
  • 井田有紀, 北川喜宏, JUHARNI, 清水智也, 高橋駿太, 大坂藍, 服部梓, 田中秀和, 桃野浩樹, 服部賢. RHEEDパターンの表面粗さ依存性. 日本物理学会講演概要集(CD-ROM). 2023. 78. 1
  • 今山航, 木元康成, MABARROH Ni’matil, 阪井雄也, 東嵩晃, 服部梓, 大坂藍, 田中秀和, 服部賢. サブマイクロサイズの三次元Si{111}ファセットライン構造の表面制御. 日本物理学会講演概要集(CD-ROM). 2023. 78. 1
  • 花島隆泰, 阿久津和宏, 大坂藍, 田中秀和, 服部梓, 吉良弘, 宮田登, 鈴木淳市, 加倉井和久. 弱磁場条件下の偏極中性子オフスペキュラー散乱. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
  • 服部梓, PAMASI Liliany N., 阪井雄也, YANG HaoBang, 細糸信好, IRMIKIMOV Aydar, 東嵩晃, 大坂藍, 田中秀和, 服部賢. 3次元立体表面上の鉄ナノ薄膜での特異な磁気特性. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
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特許 (3件)：
講演・口頭発表等 (8件)：
  • グラフェン/BiFeO3/SrRuO3構造の光起電力効果
    (第41回強誘電体会議 2024)
  • 光電子ホログラフィーを用いたMnドープBiFeO3薄膜の局所構造解析
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • フォトリソグラフィ工程におけるレジストの凝固が(Hf,Zr)O2薄膜の結晶化に与える影響
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • VO2マイクロチャネルで顕在化した結晶配向に依存した特異な相転移特性
    (第9回 材料シンポジウムワークショップ 2023)
  • 弱磁場条件下の偏極中性子オフスペキュラー散乱
    (第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023)
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学歴 (3件)：
  • 2014 - 2017 大阪大学 大学院工学研究科 精密科学応用物理学専攻
  • 2012 - 2014 大阪大学 大学院工学研究科 精密科学応用物理学専攻
  • 2008 - 2012 大阪大学 工学部 応用自然科学科
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (大阪大学)
経歴 (4件)：
  • 2023/04 - 現在 大阪大学 産業科学研究所 招聘教員
  • 2023/04 - 現在 兵庫県立大学 大学院 工学研究科 助教
  • 2019/10 - 2023/03 大阪大学 産業科学研究所 附属産業科学ナノテクノロジーセンター 特任助教
  • 2017/04 - 2019/09 三菱重工業株式会社 総合研究所機械研究部
受賞 (1件)：
  • 2020/09 - 公益社団法人精密工学会 2020年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストプレゼンテーション賞 触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上に成長させたFe3O4極薄膜における金属/絶縁体相転移特性特性の向上
所属学会 (3件)：
日本表面真空学会 ,  応用物理学会 ,  精密工学会
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