研究者
J-GLOBAL ID:200901005870231792   更新日: 2019年01月04日

田中 徹

タナカ テツ | TANAKA Tetsu
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (2件): http://db.tohoku.ac.jp/whois/detail/8b08e8a7b39be501a0941ebbc0cc0086.htmlhttp://db.tohoku.ac.jp/whois/e_detail/8b08e8a7b39be501a0941ebbc0cc0086.html
研究分野 (3件): 生体医工学・生体材料学 ,  ナノマイクロシステム ,  電子デバイス・電子機器
研究キーワード (6件): 脳埋込型多機能集積化神経プローブ ,  人工網膜システム ,  脳・機械インターフェイス ,  新機能センサデバイス ,  三次元集積化技術 ,  アナログ・デジタル集積回路設計
競争的資金等の研究課題 (25件):
  • 2018 - 2022 ソフトウェット電極で創る生体親和性デバイス
  • 2016 - 2022 先端モデル動物支援プラットフォーム
  • 2018 - 2021 ハイドロゲルを基材とする頭蓋内有機物電極の開発
  • 2018 - 2021 広視野の視覚を再建する眼球内完全埋植・低侵襲フレキシブル人工網膜の開発
  • 2017 - 2019 スマート健康パッチによる水分マネジメント
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論文 (190件):
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MISC (40件):
  • 田中 徹. 医療・ヘルスケア用ウェアラブル/インプランタブルLSIの開発. SEMICON Japan2018. 2018
  • 煤孫 祐樹, Jacquemond Achille, 高橋 則之, 木野 久志, 田中 徹, 福島 誉史. 高集積フレキシブルデバイスシステム作製のための応力 緩衝層の評価. 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018. 11-465-11-465
  • 矢吹 僚介, 銭 正よう, 李 嘉敏, 杜 邦, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹. 経爪型集積化光電式SpO2 計測システムの開発 ー回路の設計と評価ー. 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018. 11-346-11-346
  • 煤孫祐樹, 木野 久志, 福島 誉史, 田中 徹 . 高集積フレキシブルデバイスシステム作製の技術基盤構築. 2018. 11-519-11-519
  • 矢吹 僚介, 銭 正よう, 竹澤 好樹, 下川 賢士, 李 嘉敏, 木野 久志, 福島 誉史, 清山 浩司, 田中 徹. 経爪型集積化光電容積脈波計測システムの開発(2)-SpO2の計測と評価-. 2018. 11-182-11-182
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特許 (5件):
  • フィン型チャネルFETを用いたシステムLSI及びその製造方法
  • 半導体記憶装置
  • パターンの合わせずれ測定装置、それを備えた半導体ウェハ、その製造方法及びパターンの合わせずれ測定方法
  • 短チャネル効果を抑制したMIS型電解効果トランジスタ
  • 半導体装置及びその製造方法
書籍 (3件):
  • 最先端半導体パッケージ技術の全て
    (株)工業調査会 2007
  • 次世代半導体メモリの最新技術
    株式会社シーエムシー出版 2009
  • パーソナル・ヘルスケア
    (株)エヌ・ティー・エス 2013
講演・口頭発表等 (465件):
  • Analysis of p+ poly Si double-gate thin-film SOI MOSFETs
    (IEEE International Electron Devices Meeting 1991)
  • Ultrafast low-power operation of p+-n+ double-gate SOI MOSFETs
    (Symposium on VLSI Technology 1994)
  • New Method of Extracting Inversion Layer Thickness and Charge Profile and Its Impact on Scaled MOSFETs
    (1996 International Conference on Solid State Devices and Materials 1996)
  • Fmax enhancement of dynamic threshold-voltage MOSFET (DTMOS) under ultra-low supply voltage
    (IEEE International Electron Devices Meeting 1997)
  • Channel engineering using B10H14 ion implantation for low Vth and high SCE immunity of buried-channel PMOSFETs in 4-Gbit DRAMs and beyond
    (Symposium on VLSI Technology 1998)
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学位 (1件):
  • 博士(工学) (東北大学)
委員歴 (15件):
  • 2008/12 - 現在 Japanese Journal of Applied Physics編集委員会 委員
  • 2008/09 - 現在 Solid State Device and Materials国際実行委員会 委員
  • 2008/07 - 現在 Symposium on VLSI Technology and Circuits国際プログラム委員会 委員
  • 2007/04 - 現在 (社)電子情報技術産業協会 ナノエレクトロニクス技術分科会 幹事
  • 2007/04 - 現在 技術研究組合超先端電子技術開発機構 3次元積層プロジェクト研究会 委員
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所属学会 (8件):
The Institute of Electrical and Electronics Engineers ,  日本生体医工学会 ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会 ,  日本機械学会 ,  電気学会 ,  エレクトロニクス実装学会 ,  The Association for Research in Vision and Ophthalmology
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