研究者
J-GLOBAL ID:200901016881814279
更新日: 2020年05月02日
大藤 将人
オオフジ マサト | Ofuji Masato
所属機関・部署:
旧所属 東京工業大学 理工学研究科 有機・高分子物質専攻
旧所属 東京工業大学 理工学研究科 有機・高分子物質専攻 について
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職名:
大学院学生(博士課程)
競争的資金等の研究課題 (2件):
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MISC (4件):
M Ofuji, K Inaba, K Omote, H Hoshi, Y Takanishi, K Ishikawa, H Takezoe. Growth process of vacuum deposited copper phthalocyanine thin films on rubbing-treated substrates. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS. 2003. 42. 12. 7520-7524
M Ofuji, K Inaba, K Omote, H Hoshi, Y Takanishi, K Ishikawa, H Takezoe. Growth process of vacuum deposited copper phthalocyanine thin films on rubbing-treated substrates. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS. 2003. 42. 12. 7520-7524
M Ofuji, K Inaba, K Omote, H Hoshi, Y Takanishi, K Ishikawa, H Takezoe. Grazing incidence in-plane X-ray diffraction study on oriented copper phthalocyanine thin films. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS. 2002. 41. 8. 5467-5471
M Ofuji, K Inaba, K Omote, H Hoshi, Y Takanishi, K Ishikawa, H Takezoe. Grazing incidence in-plane X-ray diffraction study on oriented copper phthalocyanine thin films. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS. 2002. 41. 8. 5467-5471
学歴 (4件):
- 2002 東京工業大学 理工学研究科 有機・高分子物質専攻
- 2002 東京工業大学
- 2000 東京工業大学 工学部 有機材料工学科
- 2000 東京工業大学
学位 (1件):
工学修士 (東京工業大学)
経歴 (1件):
2003 - 21世紀COEプログラム「産業化を目指したナノ材料開拓と人材育成」 リサーチアシスタント 2003 -
所属学会 (2件):
応用物理学会
, Japan Society of Applied Physics
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