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J-GLOBAL ID：200902143599308145   整理番号：02A0698103

配向した銅フタロシアニン薄膜に関するすれすれ入射面内X線回折研究

Grazing Incidence In-Plane X-Ray Diffraction Study on Oriented Copper Phthalocyanine Thin Films.

著者 (7件)： OFUJI M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  INABA K (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  OMOTE K (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  HOSHI H (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKANISHI Y (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ISHIKAWA K (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKEZOE H (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41  号： 8  ページ： 5467-5471  発行年： 2002年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラビング処理したガラス基板に一軸配向性の銅フタロシアニン(C...

シソーラス用語： *銅錯体 ,...
準シソーラス用語： 橋架け化合物

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分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  X線回折法  (BK01020I)

物質索引 (1件)： フタロシアニン

引用文献 (24件)：

• 1) J. C. Wittmann and P. Smith: Nature 352 (1991) 414.
• 2) Y. Yoshida, N. Tanigaki, K. Yase and S. Hotta: Adv. Mater. 12 (2000) 1587.
• 3) A. Tanaka and M. Matsuoka: Thin Solid Films 393 (2001) 148.
• 4) N. Minami and M. Asai: Jpn. J. Appl. Phys. 26 (1987) 1754.
• 5) P. E. Burrows, V. Bulovic, G. Gu, V. Kozlov, S. R. Forrest and M. E. Thompson: Thin Solid Films 331 (1998) 101.

タイトルに関連する用語 (6件)： 配向 ,  銅フタロシアニン ,  薄膜 ,  すれすれ入射 ,  X線回折 ,  研究