文献

J-GLOBAL ID：200902218392489298   整理番号：04A0085714

ラビング処理した基板上に真空蒸着した銅フタロシアニン薄膜の成長過程

Growth Process of Vacuum Deposited Copper Phthalocyanine Thin Films on Rubbing-Treated Substrates

著者 (7件)： OFUJI M (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  INABA K (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  OMOTE K (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  HOSHI H (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKANISHI Y (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  ISHIKAWA K (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKEZOE H (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 12  ページ： 7520-7524  発行年： 2003年12月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラビング処理したガラス基板上に銅フタロシアニン(CuPc)薄...

シソーラス用語： *銅錯体 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0085714&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 銅フタロシアニン

引用文献 (20件)：

• 1) J. C. Wittmann and P. Smith: Nature 352 (1991) 414.
• 2) T. Ehara, H. Hirose, H. Kobayashi and M. Kotani: Synth. Met. 109 (2000) 43.
• 3) M. Nakamura, T. Matsunobe and H. Tokumoto: J. Appl. Phys. 89 (2001) 7860.
• 4) H. Yanagi, T. Mikami, H. Tada, T. Terui and S. Mashiko: J. Appl. Phys. 81 (1997) 7306.
• 5) S. Nakao, H. Hoshi, M. Gomyou, K. Ishikawa and H. Takezoe: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) L238.

タイトルに関連する用語 (5件)： ラビング処理 ,  真空蒸着 ,  銅フタロシアニン ,  薄膜 ,  成長過程