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J-GLOBAL ID：200902272651082465   整理番号：04A0512721

F₂レジストからのガス放出中の酸成分: その場QCM法を用いる試験

Acid Components in Outgassing from F₂ Resists: A Study Using In-Situ QCM Technique

著者 (5件)： SHIRAIA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TAKASHIBA S (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HORIGUCHI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  IRIE S (Semiconductor Leading Edge Technologies, Ibaraki, JPN) ,  ITANI T (Semiconductor Leading Edge Technologies, Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 17  号： 4  ページ： 645-650  発行年： 2004年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 157-nmレジスト,すなわちふっ素化環状重合体(FCP)及...

シソーラス用語： 微量天秤 ,...

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分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル ,  スチレン

引用文献 (13件)：

• 1. C. G. Willson, B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. R. Chambers, Y-T. Hsieh, T. Chiba, P. Zimmerman, D. Miller, W. Conley, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, (2002) 583.
• 2. H. Ito, H. D. Troung, M. Okazaki, D. C. Miller, N. Fender, P. J. Brock, G. M. Wallraff, C. E. Larson and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, (2002) 591.
• 3. C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y-J. Kwark, X-Q. Liu, W. Conley, D. Miller and P. Zimmerman, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, (2002) 603.
• 4. T. Shinozuka, M. Shirai and M. Tsunooka, J. Photopolym. Sci. Technol., 13, (2000) 751.
• 5. M. Shirai, T. Yamamoto and M. Tsunooka, Polym. Degrad. Stab., 63, (1999) 481.

タイトルに関連する用語 (5件)： レジスト ,  ガス放出 ,  酸 ,  QCM法 ,  試験