- 2000 - 低気圧マイクロプラズマ
- 2000 - Low-pressure Micro Plasma
- 1996 - プラズマCVDプロセスにおける微粒子の動的制御
- 1996 - Dynamic Control of Particles in Plasma CVD Process
- 1990 - 細管内壁コーティング法の開発
- 1990 - Development of Tube Inner Coating Method
- 1989 - 反応性スパッタリングの基礎研究
- 1989 - Basic Research on Reactive Sputtering
- 細管内壁コーティングの応用
- 磁化マイクロプラズマの応用
- 高速低温プラズマプロセス
- Application of Narrow Tube Inner Coating
- Application of Magnetized Micro-plasma
- High-rate and Low-temperature plasma Process
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