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J-GLOBAL ID：200902299477582424   整理番号：03A0471267

磁場中の高周波マイクロプラズマ源の開発

Development of high frequency micro plasma source in a magnetic field

著者 (3件)： MATSUSHITA M (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  MATSUDA Y (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN) ,  FUJIYAMA H (Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 435  号： 1/2  ページ： 285-287  発行年： 2003年07月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この数年,電子サイクロトロン共鳴下で同軸パイプ間隙に2.45...

シソーラス用語： キセノン ,...

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分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 磁場 ,  高周波 ,  マイクロプラズマ ,  開発