研究者
J-GLOBAL ID:200901026058539144
更新日: 2022年07月09日
石川 宏美
イシカワ ヒロミ | Ishikawa Hiromi
所属機関・部署:
千葉県産業支援技術研究所 素材開発室
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職名:
上席研究員
研究分野 (1件):
材料加工、組織制御
競争的資金等の研究課題 (3件):
1997 - 2001 イオンプレーティング法による窒化珪素膜の特性
イオンプレーティング法によるジルコニア薄膜の特性
Characteristics of silicon nitride films by the ion plating method
MISC (4件):
Mechanical Properties of thin Films Measured by Nanoindenters. Applied Surface Science. 2001. 178, 56-62
アークイオンプレーティング法により作成した窒化珪素薄膜の特性. 表面技術協会. 2000. 51, 740-744
高温硬さ試験機における試験片温度. 材料試験技術. 1996. 41, 345-350
石川 宏美, 大中 年樹, 広橋 光治. セラミックス皮膜のスクラッチ試験時に発生するAE信号の特性評価. 表面技術協会. 1994. 45, 296-300. 3. 296-300
学位 (1件):
工学博士 (千葉大学)
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