研究者
J-GLOBAL ID：200901028431821702
更新日: 2020年05月06日
丹保 豊和
タンボ トヨカズ | Tambo Toyokazu
所属機関・部署：
富山大学 工学部 電気電子システム工学科 0536014000 富山大学 大学院理工学研究科
富山大学 工学部 電気電子システム工学科 0536014000 富山大学 大学院理工学研究科 について
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職名：
助教授
研究分野 (1件)：
薄膜、表面界面物性
研究キーワード (2件)：
表面界面の物性
, Physics of surface and interface
競争的資金等の研究課題 (2件)：
シリコン上への超伝導薄膜のヘテロエピタキー
Heteroepitaxy of superconductor thin films on Si
MISC (6件)：
T Tambo, T Arakawa, A Shimizu, S Hori, C Tatsuyama. Epitaxial growth of Bi2Sr2CuOx films onto Si(001) by molecular beam epitaxy. APPLIED SURFACE SCIENCE. 2000. 159. 161-166
分子線エピタキシーによるシリコン(001)上へのBi
2
Sr
2
CuOx膜のエピタキャル成長. 応用表面科学. 2000. 159-160. 161-166
T Tambo, K Maeda, A Shimizu, C Tatsuyama. Improvement of electrical properties of epitaxial SrTiO3 films on Si(001)-2x1 by in situ annealing. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 1999. 86. 6. 3213-3217
TAMBO T, MAEDA K, SHIMIZU A, TATSUYAMA C. その場アニーリングによる,Si(001)-2×1上のエピタキシャルSrTiO
3
膜の電気的特性の改善. 応用物理誌. 1999. 86. 6. 3213-3217
T Tambo, T Nakamura, K Maeda, H Ueba, C Tatsuyama. Molecular beam epitaxy of SrTiO3 films on Si(100)-2x1 with SrO buffer layer. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS. 1998. 37. 8. 4454-4459
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学位 (1件)：
工学博士
所属学会 (2件)：
日本物理学会
, 応用物理学会
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