研究者
J-GLOBAL ID:200901044648842932
更新日: 2022年09月24日
松下 辰彦
マツシタ タツヒコ | Matsushita Tatsuhiko
所属機関・部署:
旧所属 大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科
旧所属 大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科 について
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職名:
教授
研究分野 (1件):
光工学、光量子科学
研究キーワード (4件):
環境半導体薄膜
, 光記録膜
, Ecologically Friendly Semiconductor Thin Films
, Optical Recording Film
競争的資金等の研究課題 (11件):
1998 - 環境半導体Fe Si2 薄膜の作製
1998 - Preparation of Environmental Semiconductor FeSi
2
Thim Films
1990 - PLD法によって作成した酸化物薄膜の光記録特性
1990 - RFマグネトロンスパッタによるZnO:Ga薄膜の作成
1990 - Optical Recording Characteristic of Oxide Thin Films Prepared by PDL Method
1990 - Preparation of ZnO ; Ga Thin Films by RF Magnetron Sputtering
1975 - 相変化型光記録膜に関する研究
1975 - Study on Phase-change Optical Recording Films
環境半導体,FeSi2薄膜の作製
RFマグネトロンスパッタ法およびレーザーアブレーション法による各種酸化物薄膜の作製と光記録膜への応用
相変化型光記録膜に関する研究
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MISC (138件):
T Aoki, M Tatsuhiko, A Suzuki, T Kenji, M Okuda. Write-once optical recording using WO2 films prepared by pulsed laser deposition. THIN SOLID FILMS. 2006. 509. 1-2. 107-112
T Aoki, M Tatsuhiko, A Suzuki, T Kenji, M Okuda. Write-once optical recording using WO2 films prepared by pulsed laser deposition. THIN SOLID FILMS. 2006. 509. 1-2. 107-112
前田 剛, 安倉秀明, 青木孝憲, 鈴木晶雄, 松下辰彦, 奥田昌宏. PLD法によりPVC基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の成膜条件の最適化. 電気学会論文誌C. 2006. 126. 1. 132-133
安倉秀明, 高瀬康則, 上原賢二, 中村篤宏, 東村佳則, 青木孝憲, 鈴木晶雄, 松下辰彦, 奥田昌宏. パルスレーザ堆積法により低温基板に作製した酸化亜鉛系透明導電膜. 電気学会論文誌C. 2006. 126. 11. 1268-1275
Tsuyoshi Maeda, Hideaki Agura, Takanori Aoki, Akio Suzuki, Tatsuhiko Matsushita, Masahiro Okuda. Optimization of transparent conducting ZnO films deposited on PVC substrate by PLD method. IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems. 2006. 126. 1. 132-133
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書籍 (1件):
次世代光記録技術と材料
シーエムシー出版 2004
学歴 (4件):
- 1973 大阪府立大学 工学研究科 電気工学
- 1973 大阪府立大学
- 1965 関西大学 工学部 電気工学科
- 1965 関西大学
学位 (1件):
工学博士 (大阪府立大学)
所属学会 (7件):
電気化学協会
, レーザー学会
, 日本物理学会
, 米国光学会(Optical Society of America)
, 応用物理学会
, 電子情報通信学会
, 電気学会
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