研究者
J-GLOBAL ID:200901054816574553
更新日: 2010年02月02日
小林 賢
コバヤシ ケン | Kobayashi Ken
所属機関・部署:
神奈川県産業技術センター 尾上町駐在事務所
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職名:
専門員
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (2件):
薄膜作製技術
, Thin film preparation technology
競争的資金等の研究課題 (3件):
2001 - 2004 広帯域光電界センサの開発
1993 - 1997 マイクロマシニング技術の応用によるデバイス開発
Development of devices by application of micro machining technology
MISC (4件):
Effect of ion implantation and surface structure of silicon on diamond film mucleation. Journal of Crystal Growth. 1993. Vol128 408-412
Effect of ion implantation and surface structure of silicon on diamond film mucleation. Journal of Crystal Growth. 1993. Vol128 408-412
Growth of Diamond Thin Films on Silicon and TEM Observation of Its Interface. Journal of Crystal Growth. 1990. Vol99
Growth of Diamond Thin Films on Silicon and TEM Observation of Its Interface. Journal of Crystal Growth. 1990. Vol99
特許 (2件):
ダイヤモンドブリッジまたはダイヤモンドカンチレバとその製造方法並びにダイヤモンドブリッジまたはダイヤモンドカンチレバを使用した電子デバイス
色識別装置
Works (1件):
マイクロ波帯域用光電解センサの開発
2003 - 2004
学歴 (2件):
- 1974 東京工業大学 理工学研究科 機械物理
- 1972 東京工業大学 工学部 機械物理工学
学位 (1件):
工学修士 (東京工業大学)
所属学会 (2件):
電気学会
, 応用物理学会
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