Effect of ion implantation and surface structure of silicon  on diamond film nucleation.

文献

J-GLOBAL ID：200902186690835094 整理番号：93A0423332

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巻： 128 号： 1/4 Pt 1 ページ： 408-412 発行年： 1993年03月
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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