研究者
J-GLOBAL ID:200901074840585796   更新日: 2024年02月01日

岡本 一将

Okamoto Kazumasa
所属機関・部署:
ホームページURL (2件): http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/labs/bms/http://www.eng.hokudai.ac.jp/labo/qsre/QSciEngjp/
研究分野 (4件): 量子ビーム科学 ,  基礎物理化学 ,  ナノ材料科学 ,  原子力工学
競争的資金等の研究課題 (11件):
  • 2022 - 2025 放射線プロセスによる位置制御可能なケミカルフリー水中酸化物結晶生成法の確立
  • 2020 - 2023 ガルバニック水中結晶光合成の学理構築に基づく機能性3次元ヘテロナノ構造体創製
  • 2018 - 2023 量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発
  • 2019 - 2022 放射線微細加工プロセスにおける脱プロトン誘起機構の解明と応用
  • 2015 - 2018 放射線誘起ナノ微細加工における電荷非局在性の影響
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論文 (94件):
  • Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura. Sensitization of polymethacrylate resist with adding acid-generating promoters upon exposure to EUV light. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. 11. 116503-116503
  • Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura. Study on deprotonation from radiation-induced ionized acrylate polymers including acid-generation promoters for improving chemically amplified resists. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. 6. 066505-066505
  • Photo- & radio-chromic iron-doped tungstic acids fabricated via submerged photosynthesis. Optical Materials. 2022. 124. 111966-111966
  • Jumpei Tsukamura, Yuki Takahashi, Lihua Zhang, Melbert Jeem, Kazumasa Okamoto, Seiichi Watanabe. Fabrication of color-toned micro/nanopattern surface by submerged photosynthesis method. Microelectronic Engineering. 2022. 256. 111727-111727
  • Yutaro Iwashige, Hiroto Kudo, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa. Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 41-47
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MISC (191件):
  • 岡本一将, 山本洋揮, 山本洋揮, 古澤孝弘. ポリスチレンの正電荷非局在性へのパルスラジオリシスおよびシミュレーションによるアプローチ. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2022. 2022
  • 塚村順平, 高橋優樹, 張麗華, ジェーム メルバート, 岡本一将, 渡辺精一. G-SPSCを用いた欠陥制御による色調表面パターニング. 日本金属学会講演大会(Web). 2021. 169th
  • 村上誉幸, 石割文崇, 岡本一将, 古澤孝弘, 佐伯昭紀. 鉛ペロブスカイト太陽電池の電子線照射効果. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
  • 前田尚輝, 岡本一将, 井狩優太, 誉田明宏, 古澤孝弘, 田村貴央. 化学増幅型レジストの電子線照射による膜厚依存性. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2020. 2020
  • Y. Ikari, K. Okamoto, N. Maeda, A. Konda, T. Kozawa, T. Tamura. Mechanism of resist heating effect in chemically amplified resist. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering. 2020. 11326
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特許 (6件):
学位 (1件):
  • 博士(工学) (大阪大学)
委員歴 (8件):
  • 2023/06 - 現在 日本原子力学会 枠組み編成ワーキンググループ
  • 2021/04 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム部会 部会賞選考小委員会委員
  • 2019 - 現在 日本原子力学会 プログラム編成ワーキンググループ
  • 2019 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム科学部会 運営委員
  • 2010/04 - 現在 International Microprocesses and Nanotechnology Conference 論文委員
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所属学会 (5件):
日本原子力学会 ,  応用物理学会 ,  日本化学会 ,  日本放射線化学会 ,  SPIE(The International Society for Optical Engineering)
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