研究者
J-GLOBAL ID:200901074840585796
更新日: 2024年02月01日
岡本 一将
Okamoto Kazumasa
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所属機関・部署:
大阪大学 産業科学研究所 第2研究部門(材料・ビーム科学系)
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ホームページURL (2件):
http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/labs/bms/
,
http://www.eng.hokudai.ac.jp/labo/qsre/QSciEngjp/
研究分野 (4件):
量子ビーム科学
, 基礎物理化学
, ナノ材料科学
, 原子力工学
競争的資金等の研究課題 (11件):
2022 - 2025 放射線プロセスによる位置制御可能なケミカルフリー水中酸化物結晶生成法の確立
2020 - 2023 ガルバニック水中結晶光合成の学理構築に基づく機能性3次元ヘテロナノ構造体創製
2018 - 2023 量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発
2019 - 2022 放射線微細加工プロセスにおける脱プロトン誘起機構の解明と応用
2015 - 2018 放射線誘起ナノ微細加工における電荷非局在性の影響
2014 - 2017 自己組織化数層グラフェンの糖鎖修飾による高病原性鳥インフルエンザセンサの開発
2013 - 2016 電子線・レーザー逐次照射法による微細加工用高分子の新規放射線増感反応の探索
2012 - 2015 極薄膜高分子の局所イオン化反応の解明と応用
2010 - 2011 量子ビームによる微細加工用高分子のイオン化ダイナミクスの解明
2007 - 2008 レジスト材料のナノサイズゆらぎ制御のための分子ダイナミクスと反応機構の解明
2005 - 2008 フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明
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論文 (94件):
Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura. Sensitization of polymethacrylate resist with adding acid-generating promoters upon exposure to EUV light. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. 11. 116503-116503
Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura. Study on deprotonation from radiation-induced ionized acrylate polymers including acid-generation promoters for improving chemically amplified resists. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. 6. 066505-066505
Photo- & radio-chromic iron-doped tungstic acids fabricated via submerged photosynthesis. Optical Materials. 2022. 124. 111966-111966
Jumpei Tsukamura, Yuki Takahashi, Lihua Zhang, Melbert Jeem, Kazumasa Okamoto, Seiichi Watanabe. Fabrication of color-toned micro/nanopattern surface by submerged photosynthesis method. Microelectronic Engineering. 2022. 256. 111727-111727
Yutaro Iwashige, Hiroto Kudo, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa. Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 1. 41-47
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MISC (191件):
岡本一将, 山本洋揮, 山本洋揮, 古澤孝弘. ポリスチレンの正電荷非局在性へのパルスラジオリシスおよびシミュレーションによるアプローチ. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2022. 2022
塚村順平, 高橋優樹, 張麗華, ジェーム メルバート, 岡本一将, 渡辺精一. G-SPSCを用いた欠陥制御による色調表面パターニング. 日本金属学会講演大会(Web). 2021. 169th
村上誉幸, 石割文崇, 岡本一将, 古澤孝弘, 佐伯昭紀. 鉛ペロブスカイト太陽電池の電子線照射効果. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
前田尚輝, 岡本一将, 井狩優太, 誉田明宏, 古澤孝弘, 田村貴央. 化学増幅型レジストの電子線照射による膜厚依存性. 日本原子力学会春の年会予稿集(CD-ROM). 2020. 2020
Y. Ikari, K. Okamoto, N. Maeda, A. Konda, T. Kozawa, T. Tamura. Mechanism of resist heating effect in chemically amplified resist. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering. 2020. 11326
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特許 (6件):
薄膜トランジスタおよびその製造方法
カーボンナノウォール配列体およびカーボンナノウォールの製造方法
薄膜トランジスタおよびその製造方法
薄膜トランジスタおよびその製造方法
薄膜トランジスタおよびその製造方法
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学位 (1件):
博士(工学) (大阪大学)
委員歴 (8件):
2023/06 - 現在 日本原子力学会 枠組み編成ワーキンググループ
2021/04 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム部会 部会賞選考小委員会委員
2019 - 現在 日本原子力学会 プログラム編成ワーキンググループ
2019 - 現在 日本原子力学会 加速器・ビーム科学部会 運営委員
2010/04 - 現在 International Microprocesses and Nanotechnology Conference 論文委員
2016 - 2020 日本放射線化学会 編集委員
2015/04 - 2016/03 日本原子力学会 オープンスクール小委員会委員
2011 - 2012 日本原子力学会北海道支部 庶務幹事
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所属学会 (5件):
日本原子力学会
, 応用物理学会
, 日本化学会
, 日本放射線化学会
, SPIE(The International Society for Optical Engineering)
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