特許
J-GLOBAL ID:201303078247216712
カーボンナノウォール配列体およびカーボンナノウォールの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
上羽 秀敏
, 松山 隆夫
, 坂根 剛
, 川上 桂子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-149002
公開番号(公開出願番号):特開2013-014478
出願日: 2011年07月05日
公開日(公表日): 2013年01月24日
要約:
【課題】所望のパターンに沿ってカーボンナノウォールを配向させることが可能なカーボンナノウォール配列体を提供する。【解決手段】カーボンナノウォール配列体10は、基板1と、カーボンナノウォール2〜9とを備える。基板1は、シリコンからなる。そして、基板1は、凸部11と凹部12とを含む。凸部11および凹部12は、方向DR1に沿って基板1の一方の表面に形成される。凸部11および凹部12は、方向DR1に垂直な方向DR2において、交互に形成される。凸部11は、方向DR2において、0.1〜0.5μmの長さを有し、凹部12は、方向DR2において、0.6〜1.5μmの長さを有する。また、凸部11の高さは、0.3〜0.6μmである。カーボンナノウォール2〜9の各々は、基板1の凸部11の長さ方向(=方向DR1)に沿って凸部11上に形成される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
一主面に凹凸形状がストライプ状または碁盤目状に形成された基板と、
前記凹凸形状の凸部の長さ方向に沿って前記凸部上に形成された複数のカーボンナノウォールとを備え、
前記基板の面内方向における前記凸部の幅が前記基板の面内方向における前記凹凸形状の凹部の幅よりも狭く、かつ、前記凸部の幅が0.5μm以下である、カーボンナノウォール配列体。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (16件):
4G146AA07
, 4G146AB07
, 4G146AD05
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB23
, 4G146BC09
, 4G146BC16
, 4G146BC25
, 4G146BC27
, 4G146BC32B
, 4G146BC33B
, 4G146BC37B
, 4G146DA03
, 4G146DA16
, 4G146DA33
引用特許: