研究者
J-GLOBAL ID:200901075404356184
更新日: 2024年06月26日
森 克巳
モリ カツミ | Mori Katsumi
研究分野 (3件):
薄膜、表面界面物性
, 結晶工学
, 応用物性
研究キーワード (4件):
荷電ビーム微細加工
, 半導体
, Beam assisted micro fabrication
, Semiconductor
競争的資金等の研究課題 (2件):
ダイアモンドに関する微細加工の研究
Pattern fabrication technology for diamonds
MISC (6件):
電子ビームCVDによるダイアモンド膜の微細加工. 2002. 17. 1096-1100
Micro fabrication of diamond films by localized electron beam CVD. Semiconductor Science and Technology. 2002. 17. 1096-1100
電子ビームリソグラフィによるダイアモンド膜の微細パターン形成. 2000. 39. 7B. 4532
電子ビームによるダイアモンドへの微細パターン形成. ニューダイアモンドフォーラム学術委員会. 2000
Kiyohara Shuji, Ayano Kenjiro, Abe Takahisa, Mori Katsumi. Micropatterning of Chernical-Vapor-Deposited Diamond Films in Electron Beam Lithography. Japanese Journal of Applied Physics. 2000. 39. 7B. 4532-4535
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書籍 (4件):
応用物理ハンドブック
丸善 1990
Applied Physics Handbook
1990
エレクトロニクス材料
オーム社 1981
Electronics materials
1981
Works (2件):
ダイアモンド加工技術に関する共同研究
1995 -
Joint research on fabrication technology of diamonds
1995 -
学位 (1件):
理学博士 (大阪大学)
所属学会 (2件):
表面科学会
, 応用物理学会
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