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J-GLOBAL ID：200902169710421842   整理番号：00A0795825

電子ビームリソグラフィーでの化学蒸着ダイヤモンド膜のマイクロパターン化

Micropatterning of Chernical-Vapor-Deposited Diamond Films in Electron Beam Lithography.

著者 (4件)： KIYOHARA S (Sci. Univ. Tokyo in Yamaguchi, Yamaguchi, JPN) ,  AYANO K (Sci. Univ. Tokyo in Yamaguchi, Yamaguchi, JPN) ,  ABE T (Sci. Univ. Tokyo in Yamaguchi, Yamaguchi, JPN) ,  MORI K (Sci. Univ. Tokyo in Yamaguchi, Yamaguchi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39  号： 7B  ページ： 4532-4535  発行年： 2000年07月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビームリソグラフィーを用いたCVDダイヤモンド膜のマイク...

シソーラス用語： *化学蒸着 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (10件)：

• 1) F. J. Himpsel, J. A. Knapp, J. A. Van Vechten and D. E. Eastman: Phys. Rev. B20 (1979) 624.
• 2) J. Van der Weide, Z. Zhang, P. K. Bauhmann, M. G. Wensell, J. Bernholc and R. J. Nemanich: Phys. Rev. B50 (1994) 5803.
• 3) S. Kiyohara, Y. Yagi and K. Mori: Nanotechnology 10 (1999) 385.
• 4) K. Mori and S. Okamura: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) L1143.
• 5) S. Matsumoto, Y. Sato, M. Kamo and N. Setaka: Jpn. J. Appl. Phys. 21 (1982) L183.

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビームリソグラフィー ,  化学蒸着 ,  ダイヤモンド膜 ,  マイクロパターン