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J-GLOBAL ID：200902147481417379   整理番号：02A0847371

局在電子ビーム化学蒸着法によるダイヤモンド薄膜の微細加工

Microfabrication of diamond films by localized electron beam chemical vapour deposition.

著者 (3件)： KIYOHARA S (Tokyo Univ. Sci., Yamaguchi, JPN) ,  TAKAMATSU H (Tokyo Univ. Sci., Yamaguchi, JPN) ,  MORI K (Tokyo Univ. Sci., Yamaguchi, JPN)
資料名： Semiconductor Science and Technology  (Semiconductor Science and Technology)
巻： 17  号： 10  ページ： 1096-1100  発行年： 2002年10月 
JST資料番号： E0503B  ISSN： 0268-1242  CODEN： SSTEET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ダイヤモンドは圧子や切削工具として主に用いられているが,近い...

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,...
準シソーラス用語： Raman顕微分光法

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビーム ,  化学蒸着法 ,  ダイヤモンド薄膜 ,  微細加工