渡辺征夫

ワタナベユキオ | Watanabe Yukio

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (4件)：電気電子材料工学 , 薄膜、表面界面物性 , プラズマ科学 , プラズマ応用科学

研究キーワード (6件)：プラズマ理工学 , 表面界面物性 , 電子・電気材料工学 , Masma Science & Technology , Plasma Processing , Electronic and Electrical Engineering

競争的資金等の研究課題 (14件)：

1995 - プラズマCVD法を用いた集積回路内銅配線形成
1995 - Cu interconnects in LSI using plasma CVD method
1989 - プロセスプラズマ中の微粒子生成・挙動とその応用
1989 - プロセシングプラズマ中の反応制御
1989 - Formation and behavior of particles in processing plasmas and their applications

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MISC (214件)：

書籍 (14件)：

Residual Stress in Cu Films Deposited by H-Assisted Plasma CVD Using Cu(EDMDD)2
Proc. 2003 International Symposium on Dry Process 2003
Deposition of Nano-Cluster-Dispersed a-Si:H Films using H2+SiH4 Twin Discharges
Proc. International Symposium on Information Science and Electrical Engineering 2003 2003
Conformal and Anisotropic Deposition of Cu in Trenches by using H-Assisted Plasma CVD Method
Proc. International Symposium on Information Science and Electrical Engineering 2003 2003
Deposition of a-Si:H films of high stability by cluster-suppressed plasma CVD
Proc. Int. Symp. Plasma Chemistry 2003
Effects of Excitation Frequency and H2 Dilution on Cluster Generation in Silane High-Frequency Discharges
MRS Symp. Proc. 2003

Works (19件)：

LSI用低誘電率層間絶縁膜の作製技術の開発
2002 -
Patent "Method for producing particles with diamond structure"
2002 -
Patent"Method for producing particles with diamond structure"
2002 -
太陽電池用超高品質アモルファスSi薄膜の超高速作製のためのクラスタ抑制プラズマCVD法の開発
1999 - 2001
Development of cluster-suppressed plasma CVD method for depositing extremely high-quality amorphous silicon at high rate
1999 - 2001

学歴 (4件)：

学位 (1件)：

経歴 (6件)：

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委員歴 (5件)：

所属学会 (5件)：

米国物理学会 , プラズマ・核融合学会 , 照明学会 , 電気学会 , 応用物理学会

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渡辺 征夫