研究者
J-GLOBAL ID:200901083197381672
更新日: 2024年12月18日
石田 章
イシダ アキラ | Ishida Akira
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所属機関・部署:
独立行政法人物質・材料研究機構 材料基盤研究センター インテリジェント材料研究グループ 第2サブグループ
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職名:
サブグループリーダー
研究キーワード (6件):
薄膜
, マイクロマシン
, 形状記憶合金
, Thin Films
, Micromachine
, Shape memory alloys
競争的資金等の研究課題 (2件):
形状記憶合金、薄膜
Thin films Shape memory alloys
MISC (9件):
Akira Ishida, Morio Sato, Atsushi Takei, Shuichi Miyazaki. Effect of heat treatment on shape memory behavior of Ti-rich Ti-Ni thin films. Materials Transactions, JIM. 1995. 36. 11. 1349-1355
Shape memory thin film of TiNi formed by sputtering ・・・. Thin Solid Films, vol.228, pp.210 (1993). 1993. 228. 1-2. 210-214
A. Ishida, A. Takei, S. Miyazaki. Shape memory thin film of TiNi formed by sputtering. Thin Solid Films. 1993. 228. 1-2. 210-214
表面技術便覧. 日刊工業新聞社 1998
身近な機能膜のはなし. 日刊工業新聞社 1994
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学歴 (2件):
大阪大学工学部金属材料工学科
大阪大学大学院修士課程金属材料工学科
学位 (1件):
工学博士
経歴 (3件):
1997 - 2000 科学技術庁金属材料技術研究所 サブグループリーダ
1989 - 1996 科学技術庁金属材料技術研究所 主任研究員
1981 - 1988 科学技術庁金属材料技術研究所 研究員
受賞 (3件):
1997-2000 科学技術庁金属材料技術研究所 サブグループリーダ
1989-1996 科学技術庁金属材料技術研究所 主任研究員
1981-1988 科学技術庁金属材料技術研究所 研究員
所属学会 (2件):
The Journal of the Surface Finishing Society of Japan
, The Japan Institute of Metals
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