研究者
J-GLOBAL ID：200901090479263610   更新日: 2024年01月31日

進藤 春雄

Shindo Haruo
研究分野 (4件)： 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  プラズマ科学 ,  プラズマ応用科学
研究キーワード (6件)： 光集積回路 ,  半導体プロセス ,  プラズマ理工学 ,  Optical integrated Circuit ,  Semiconductor process ,  Plasma Physics and Technology
競争的資金等の研究課題 (22件)：
  • 2017 - 2020 大規模直線型マイクロ波大気圧プラズマの生成技術に関する研究
  • 2010 - 2011 表面波共鳴点断熱拡散法による負イオンプラズマ生成とナノファブリケーションへの応用
  • 2008 - 2010 大規模マイクロ波ラインプラズマの生成技術に関する研究
  • 2006 - 2007 高周波プラズマの電子エネルギー分布計測法に関する研究
  • 2006 - 2007 プラズマプロセスによる相転移酸化物結晶成長とスイッチングデバイス創製
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論文 (28件)：
  • Hiroshi Kuwahata, Hiroshi Miyata, Masao Isomura, Haruo Shindo. Generation of microwave-excited atmospheric-pressure line plasma and its application. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2017. 56. 12
  • Yuki Ishii, Tetsuya Kaneko, Kunio Okimura, Haruo Shindo, Masao Isomura. Fabrication of amorphous silicon nitride thin films by radio-frequency sputtering assisted by an inductively coupled plasma. THIN SOLID FILMS. 2017. 624. 49-53
  • Isomura Masao, Yamada Toshinori, Osuga Kosuke, Shindo Haruo. Reduction in plasma potential by applying negative DC cathode bias in RF magnetron sputtering. Jpn. J. Appl. Phys. 2016. 55. 11. 116201-116201
  • Yasuyuki Taniuchi, Toshinori Yamada, Takanori Tokieda, Michiaki Utsumi, Masao Isomura, Haruo Shindo. A New Floating-Probe for Measurement of Insulated Plasma Produced by Radio-Frequency Power. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2012. 51. 11
  • K Fujiwara, H Shindo. In situ measurements of etching species in SF6 microwave downstream plasma by ion attachment mass spectroscopy. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2004. 43. 8A. 5540-5544
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MISC (45件)：
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特許 (3件)：
  • プラズマ領域中に電子エネルギー分布の測定方法及びその測定装置
  • シリコン基板の酸化膜形成装置及び酸化膜形成方法
  • プラズマ中の電子エネルギー分布の測定方法及び装置
書籍 (5件)：
  • ヤメスターのための基礎電磁気学
    東海大学出版会 1999
  • Electromagnetisms for Semester
    Tokai University Press 1999
  • 半導体研究
    工業調査会 1995
  • Semiconductor Research
    Kogyo Chosa Kai 1995
  • 高密度プラズマ応用プロセス技術
    株式会社 リアライズ社 1993
Works (10件)：
  • 高誘電率セラミックを用いた高密度プラズマ発生装置の開発研究
    2004 -
  • Development of High density plasma Source with High permittivity Ceramic
    2004 -
  • 酸素負イオンによる酸化膜形成技術
    2001 -
  • Oxide film formation by negative oxygen ions
    2001 -
  • 大口径エッチングプラズマに関する研究
    2000 -
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学歴 (4件)：
  • - 1971 秋田大学 鉱山学研究科 電気工学
  • - 1971 秋田大学
  • - 1969 秋田大学 鉱山学部 電気工学
  • - 1969 秋田大学
学位 (2件)：
  • 工学修士 (秋田大学)
  • 工学博士 (九州大学)
経歴 (7件)：
  • 1992 - 1994 福山大学工学部 助教授
  • 1992 - 1994 福山大学
  • 1994 - - 東海大学工学部 教授
  • 1988 - 1991 広島大学工学部 講師
  • 1988 - 1991 広島大学
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委員歴 (4件)：
  • 2002 - 2003 応用物理学会 講演企画委員
  • 2000 - 2001 応用物理学会 分科世話人
  • 1993 - 1994 電気学会 中国支部協議員
  • 1990 - 1991 応用物理学会 分科会幹事
所属学会 (4件)：
放電研究会 ,  物理学会 ,  電気学会 ,  応用物理学会
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