研究者
J-GLOBAL ID:200901098676836355   更新日: 2020年07月13日

大石 耕一郎

オオイシ コウイチロウ | Oishi Koichiro
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (3件): 電気電子材料工学 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (4件): 太陽電池 ,  結晶 ,  エピタキシャル成長 ,  薄膜
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2010 - 2016 Next次世代を目指す化合物薄膜太陽電池の高性能化
  • 2006 - 2010 同時蒸着法による超高品質CZTS光吸収層の研究開発
  • 2004 - 2006 シリコン太陽電池の高効率化に向けたCu(In,Ga)S_2薄膜の成長と構造の検討
  • 2003 - 2005 汎用原料によるCZTS光吸収層による新型薄膜太陽電池の研究開発
  • 2001 - 2002 シリコン太陽電池の高効率化に向けたCuInS_2薄膜のエピタキシャル成長の検討
論文 (2件):
  • Ryuta Iba, Yuki Adachi, Ariyuki Kato, Koichiro Oishi, Hironori Katagiri, Kanji Yasui. NO GAS DOPING OF ZnO FILMS USING Ir HOT-WIRE IN CATALYTIC REACTION-ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION. Journal of Materials Science and Engineering with Advanced Technology. 2019. 19. 1. 29-41
  • 塩野計司, 衛藤俊彦, 土田勝範, 土田恵一, 佐藤秀一, 荒木秀明, 大石耕一郎. 創造性と実践力の発揮を促す実験科目の構成. 論文集「高専教育」. 2008. 31. 433-438
MISC (24件):
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講演・口頭発表等 (23件):
  • 触媒反応支援CVD法で作製したZnO膜へのNOガス中アニール
    (2020年電子情報通信学会総合大会(開催中止,発表扱い) 2020)
  • SPS法によるCu2ZnSnS4バルク結晶の作製と評価II
    (第67回応用物理学会春季学術講演会(開催中止,発表扱い) 2020)
  • Acceptor Doping of ZnO Films by NO Gas Decomposition on Heated Ir Wire Surface in a Catalytic Reaction-Assisted CVD
    (Materials Research Meeting 2019 (MRM2019) 2019)
  • 触媒反応支援CVD法における励起NOガスによるZnO膜への窒素ドーピング
    (電子情報通信学会ソサイエティ大会 2019)
  • 太陽電池への応用に向けたCu2ZnSnS4バルク結晶の物性評価
    (応用物理学会 多元系化合物・太陽電池研究会 平成30年度年末講演会 2018)
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学歴 (3件):
  • 1994 - 1997 新潟大学 大学院自然科学研究科 生産科学
  • 1992 - 1994 新潟大学 大学院工学研究科 電子工学
  • 1988 - 1992 新潟大学 工学部 電子工学
学位 (2件):
  • 博士(工学) (新潟大学)
  • 修士(工学) (新潟大学)
経歴 (5件):
  • 2016/04 - 現在 長岡工業高等専門学校 教授
  • 2007/04 - 2016/03 長岡工業高等専門学校 准教授
  • 2001/04 - 2007/03 長岡工業高等専門学校 助教授
  • 2005/03 - 2005/08 Hahn-Meitner-Institut Berlin, GmbH Guest Scientist
  • 1997/04 - 2001/03 長岡工業高等専門学校 助手
所属学会 (3件):
電気学会 ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会
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