触媒反応により生成した高エネルギーH<sub>2</sub>Oを用いてガラス基板上に成長させたZnO膜の光学的性質に及ぼすN<sub>2</sub>Oドープしたバッファ層の影響

KANAUCHI Shingo; OHASHI Yuki; OHISHI Koichiro; KATAGIRI Hironori; TAMAYAMA Yasuhiro; KATO Takahiro; YASUI Kanji

文献

J-GLOBAL ID：201702237358412714 整理番号：17A1220563

触媒反応により生成した高エネルギーH₂Oを用いてガラス基板上に成長させたZnO膜の光学的性質に及ぼすN₂Oドープしたバッファ層の影響

Effect of N₂O-doped buffer layer on the optical properties of ZnO films grown on glass substrates using high-energy H₂O generated by catalytic reaction

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資料名：
巻： 55 号： 2S ページ： 02BC14.1-02BC14.4 発行年： 2016年02月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

ガラス基板と化学蒸着(CVD)により作製したZnO膜との間に挿入したN₂Oドープバッファ層を用いて,ガラス基板上に成長させたZnO膜の光学的性質性の改善を調べた。ZnO膜は亜鉛と酸素源としてそれぞれ触媒反応により作製したジメチル亜鉛(DMZn)と高温のH₂Oを用いて773Kで成長させた。N₂Oをドープしたバッファ層上に成長させたZnO膜では結晶成長が向上し,c軸方向の結晶方位の変動はCVD法によりガラス基板上に直接成長した膜の結晶方位の変動よりも小さかった。また,バッファ層の挿入に伴い375~700nmの波長領域における光透過率が上昇した。(翻訳著者抄録)

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酸化物薄膜

引用文献 (35件)：

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触媒反応により生成した高エネルギーH2Oを用いてガラス基板上に成長させたZnO膜の光学的性質に及ぼすN2Oドープしたバッファ層の影響

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