化学増幅型フォトレジスト用の高特性アクリル系高分子

ALLEN R D; WALLRAFF G M; HINSBERG W D; SIMPSON L L

文献

J-GLOBAL ID：200902007649108303 整理番号：92A0168866

化学増幅型フォトレジスト用の高特性アクリル系高分子

High performance acrylic polymers for chemically amplified photoresist applications.

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巻： 9 号： 6 ページ： 3357-3361 発行年： 1991年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

メタクリル酸メチル,メタクリル酸t-ブチルおよびメタクリル酸...

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固体デバイス製造技術一般 , その他の高分子の反応

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