文献

J-GLOBAL ID：200902014133428316   整理番号：90A0224278

タングステン源としてWCl₆を使用したタングステンの選択低圧化学蒸着の実験的,熱力学的研究

Experimental and thermodynamical investigation of selective low pressure chemical vapour deposition of tungsten using WCl₆ as tungsten source.

著者 (2件)： HARSTA A (Univ. Uppsala, Uppsala, SWE) ,  CARLSSON J-O (Univ. Uppsala, Uppsala, SWE)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 176  号： 2  ページ： 263-276  発行年： 1989年09月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記タングステンの化学蒸着を実験的,熱力学的に研究。この方法...

シソーラス用語： LPCVD ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=90A0224278&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  半導体-金属接触【’81~’92】  (BM03073E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： タングステン ,  WCl6 ,  低圧化学蒸着 ,  実験 ,  熱力学 ,  研究