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J-GLOBAL ID：200902029102811631   整理番号：92A0050672

ガラスの反応性イオンエッチングの評価と集積光学への応用

Characerization of reactive ion etching of glass and its applications in integrated optics.
著者 (2件)：
RONGGUI S

RONGGUI S について

(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)

Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN について

, 
RIGHINI G C

RIGHINI G C について

(Inst. Ricerca sulle Onde Eletteomagnetiche, CNR, Firenze)

Inst. Ricerca sulle Onde Eletteomagnetiche, CNR, Firenze について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)

Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films について


巻： 9  号： 5  ページ： 2709-2712  発行年： 1991年09月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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種々の条件下におけるソーダ石灰ガラスの反応性イオンエッチ(R...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件)：
分類
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プラズマ応用 
(BJ02110K)

プラズマ応用 について

,  光集積回路,集積光学 
(BD06050D)

光集積回路,集積光学 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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ガラス

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, 
反応性イオンエッチング

反応性イオンエッチング について

, 
評価

評価 について

, 
集積光学

集積光学 について

, 
応用

応用 について


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