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J-GLOBAL ID：200902031051361096   整理番号：91A0863456

Low-temperature silicon and germanium CVD in ultracleam environment.

著者 (4件)： MUROTA J (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KATO M (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KIRCHER R (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ONO S (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Journal de Physique. 4. Proceedings  (Journal de Physique. 4. Proceedings)
巻： 1  号： C2  ページ： C2.795-C2.802  発行年： 1991年09月 
JST資料番号： A0743C  ISSN： 1155-4339  資料種別： 会議録 (C)
発行国： フランス (FRA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： CVD