高性能ポジ型フォトレジストの設計概念

HANABATA M; UETANI Y; FURUTA A

文献

J-GLOBAL ID：200902032517915875 整理番号：90A0222261

高性能ポジ型フォトレジストの設計概念

Design concept for a high-performance positive photoresist.

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資料名：
巻： 7 号： 4 ページ： 640-650 発行年： 1989年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

いろいろな種類のクレゾール-ホルムアルデヒド系ノボラック樹脂...

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固体デバイス製造技術一般 , その他の高分子の反応 , 試料技術

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