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J-GLOBAL ID：200902032941745645   整理番号：88A0060593

LPCVD多結晶シリコン皮膜の構造に対する低圧の影響

The effect of low pressure on the structure of LPCVD polycrystalline silicon films.
著者 (4件)：
JOUBERT P

JOUBERT P について

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LOISEL B

LOISEL B について

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CHOUAN Y

CHOUAN Y について

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HAJI L

HAJI L について

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資料名：
Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)

Journal of the Electrochemical Society について


巻： 134  号： 10  ページ： 2541-2545  発行年： 1987年10月 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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LPCVDで作成した非ドープSi皮膜の構造と結晶成長について...
シソーラス用語：
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ケイ素

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圧力依存性

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分類 (1件)：
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半導体薄膜 
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タイトルに関連する用語
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皮膜

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低圧

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