バッグランドドーズの均等化による電子ビームリソグラフィーに対する近接効果の補正

OWEN G; RISSMAN P

文献

J-GLOBAL ID：200902039299942878 整理番号：84A0196210

バッグランドドーズの均等化による電子ビームリソグラフィーに対する近接効果の補正

Proximity effect correction for electron beam lithography by equalization of background dose.

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巻： 54 号： 6 ページ： 3573-3581 発行年： 1983年06月
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

電子ビームリソグラフィーにおける近接効果の補正は一般にドーズ...

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固体デバイス製造技術一般

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