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J-GLOBAL ID：200902046676494504   整理番号：92A0038980

小特集 ダイヤモンド薄膜の成膜技術・評価および応用 有磁場マイクロ波プラズマCVD法およびマイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の作製

Special Issue/Deposition Methods, Characterizations and Applications of Diamond Films. Deposition of Diamond Films Using Magneto-Active Plasma CVD and Microwave Plasma CVD.

著者 (3件)： 鈴木準一 (島津製作所) ,  川原田洋 (大阪大 工) ,  平木昭夫 (大阪大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 42  号： 12  ページ： 1189-1195  発行年： 1991年12月 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 有磁場マイクロ波CVD法とマイクロ波CVD法を解説した。前者...

シソーラス用語： ダイヤモンド ,...
準シソーラス用語： メタン

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

引用文献 (20件)：

• 1) たとえば瀬高信雄, 難波義捷, 松永正久, 若槻雅男編集, 人造ダイヤモンドハンドブック (サイエンスフォーラム社, 1989) 犬塚直夫, ダイヤモンド薄膜 (共立出版, 1990) など
• 2) S. Matsumoto, Y. Sato, M. Kamo and N. Setaka, Jpn J. Appl Phys., 21, L183 (1982)
• 3) M. Kamo, Y. Sato, S Matsumoto and N Setaka; J. Cryst. Growth., 62, 642 (1983)
• 4) K. Suzuki, A. Sawabe, H. Yasuda and T. Inuzuka, Appl. Phys Lett., 50, 728 (1987)
• 5) K Kurihara, K. Sasaki, M. Kawarada and N. Koshino, Appl. Phys. Lett, 52, 437 (1987)

タイトルに関連する用語 (7件)： ダイヤモンド薄膜 ,  成膜 ,  評価 ,  応用 ,  磁場 ,  マイクロ波プラズマCVD ,  作製