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J-GLOBAL ID：200902059220742438   整理番号：89A0241749

半導体用異物検査技術

Contaminants inspection technology for semiconductor industry.

著者 (1件)： 秋山伸幸 (日立)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 55  号： 2  ページ： 294-298  発行年： 1989年02月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 標記技術の現状を解説。異物の検出には,空中塵あいの検出,液中...

シソーラス用語： 半導体素子 ,...
準シソーラス用語： 汚染監視

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (16件)：

• 1) 藤居眞理子, 角田光雄 : 精密洗浄分野における汚染のメカニズム, 洗浄技術と評価, 精密工学会誌, 54, 10 (1988) 1835.
• 2) 土井秀明, 原 靖彦, 小泉光義 : 透明薄膜材料の微小凹凸検査装置, 第29回自動制御連合講演会 (1986.11) 647.
• 3) 蓬莱泉雄, 山本穂積 : レーザダストモニタによる微粒子計測技術, センサ技術, 8, 2 (1988) 77.
• 4) 財津靖史ほか : 液体用レーザ微粒子カウンタの開発, 第5回空気清浄とコンタミネーションコントロールに関する技術研究大会 (1986.4) 291.
• 5) ESTEKカタログ「WIS-100」.

タイトルに関連する用語 (1件)： 異物検査