形状可変電子線リソグラフィー装置,EB55 I  システム設計

FUJINAMI M; MATSUDA T; TAKAMOTO K; YODA H; ISHIGA T; SAITOU N; KOMODA T

文献

J-GLOBAL ID：200902066200566478 整理番号：82A0362551

形状可変電子線リソグラフィー装置,EB55 I システム設計

Variably shaped electron beam lithography system, EB55: I. System design.

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資料名：
巻： 19 号： 4 ページ： 941-945 発行年： 1981年11月
JST資料番号： C0789A ISSN： 0022-5355 CODEN： JVSTAL 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

サブミクロンのパターンをウエハに直接書き込むEB55の構造,...

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固体デバイス製造技術一般

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