急速熱処理を用いSi(100)にチタンやコバルトゲルマニウム化合物を形成

文献

J-GLOBAL ID：200902071421492197 整理番号：92A0202911

Formation of Titanium and Cobalt Germanides on Si(100) Using Rapid Thermal Processing.

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資料名：
巻： 21 号： 1 ページ： 81-86 発行年： 1992年01月
JST資料番号： D0277B ISSN： 0361-5235 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

金属蒸着の前にゲルマニウムをRTCVDで堆積し,Arあるいは...

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金属薄膜 , 固体デバイス製造技術一般

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