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J-GLOBAL ID：200902078022949161   整理番号：81A0186770

電子ビームびょう画装置用高精度試料台の開発

著者 (3件)： 東条徹 (東芝) ,  堀光平 (東芝) ,  森脇祥修 (東芝)
資料名： 精密機械  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 47  号： 3  ページ： 362-367  発行年： 1981年03月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0374-3543  CODEN： SEKIA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子ビームびょう画装置によるLSIマスクの製作はすでに実用化...

シソーラス用語： リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 工作精度

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (4件)：

• 1) D. R. Herriott, R. J. Collier, D. S. Alles & J. W. Stafford : EBES; A Practical Electron Lithographic System, IEEE Trans. Electron Devices, 22, 2, (July 1975) 385.
• 2) 松本有史, 河内康伸, 河野 毅, 比田井 裕 : ラスタスキャン方式電子ビーム露光システム, 電子材料, 11 (1978) 26.
• 3) J. Pasiecznik & J. W. Reeds : Digitally Positioned Mechanical Stage, J. Vac. Sci. Technol., 15, 3, (May/June 1978) 909.
• 4) 東條 徹, 堀 光平 : リニアベアリング, 特開昭55-60718.

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子ビーム ,  びょう ,  試料台 ,  開発