Si〈111〉面につけたけい化コバルトの固相および分子ビームエピタキシャル膜の電子エネルギー損失分光による研究

DE FRESART E; KAO Y C; WANG K L

文献

J-GLOBAL ID：200902098087942270 整理番号：86A0336658

Si〈111〉面につけたけい化コバルトの固相および分子ビームエピタキシャル膜の電子エネルギー損失分光による研究

Study of solid phase and molecular beam epitaxial cobalt silicide films on Si〈111〉 using electron energy loss spectroscopy.

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巻： 4 号： 2 ページ： 645-648 発行年： 1986年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Si基板に室温で蒸着したCoの熱反応とMBEによる方法でCo...

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その他の無機化合物の薄膜 , 電子分光スペクトル

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