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J-GLOBAL ID：200902100748739900   整理番号：00A0122800

NTTにおけるX線マスクの進歩

Progress in x-ray mask technology at NTT.

著者 (6件)： ODA M (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  SHIMADA M (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  TSUCHIZAWA T (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  UCHIYAMA S (NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN) ,  OKADA I (NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN) ,  YOSHIHARA H (NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 17  号： 6  ページ： 3402-3406  発行年： 1999年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線マスク用の膜及び吸収体材料とシンクロトロン放射リソグラフ...

シソーラス用語： *X線リソグラフィー ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (2件)： NTT ,  X線マスク